更多"一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理"的相关试题:
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
A. 不必处理
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 去除腭杆，让患者将义齿戴走
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
A. 不做处理，让患者把义齿戴走
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 取下腭杆
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A. 不做处理，让患者将义齿戴走
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 取下腭杆
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 不做处理，让患者将义齿戴走
D. 腭杆组织面缓冲
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]上颌后腭杆的位置是
A. 第二、三磨牙之间
B. 第一、二磨牙之间
C. 第一、二前磨牙之前
D. 第一磨牙处
E. 第二磨牙处
[单项选择]肯氏第一类缺失义齿的后腭杆应
A. 与粘膜密合
B. 离开粘膜0.5～1.0mm
C. 离开粘膜1.5～2.0mm
D. 离开粘膜2.0～2.5mm
E. 离开粘膜3.0～4.0mm
[单项选择]上颌后腭杆放置的正确位置是（）。
A. 第一、二前磨牙之间，中部微凸向前方
B. 第二前磨牙与第一磨牙之间，中部微凸向前方
C. 第二前磨牙与第一磨牙之间，中部微凸向后方
D. 第一、二磨牙之间，中部微凸向前方
E. 第一、二磨牙之间，中部微凸向后方
[单项选择]后腭杆位于
A. 上颌硬区之前
B. 上颌硬区
C. 上颌硬区之后，颤动线之前
D. 颤动线
E. 颤动线之后
