更多"光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶"的相关试题:
[简答题]什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
[判断题]最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
[简答题]例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
[判断题]金融期权包括看涨期权和看跌期权两种基本类型。
[简答题]什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
[填空题]饲料加工工艺的基本类型主要有（）和“先配料，后粉碎”两种类型。
[单项选择]一般意义上的产业政策手段基本包括（）两种类型。
A. 间接干预和直接干预
B. 支持政策和限制政策
C. 扶植政策和排斥政策
D. 局部干预和全面干预
[简答题]光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
[单项选择]光刻加工的工艺过程为：（）
A. ①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗
B. ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散
C. ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
[判断题]创新思维包括两种基本的思维形式：逻辑思维和非逻辑思维。
[单项选择]材料的永久形变有两种基本类型，以下哪种不属于该类型。（）
A. 滞弹性变形和流动；
B. 塑性流动；
C. 粘性流动。
