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[填空题]晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
[判断题]能用酸性蚀刻液蚀刻的工件就绝对不用碱性蚀刻液。
[多项选择]属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。
A. 氯气再生
B. 通氧气或压缩空气再生
C. 电解再生
D. 双氧水再生
[判断题]所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液，大部分金属不可用酸性蚀刻液，金除外。
[配伍题]哪种离子的内流数量与当时膜的去极化大小程度成比例（）|轴突末梢释放神经递质与哪种离子内流有关（）
A. K+
B. Na+
C. Ca2+
D. Cl-
E. H+
[单项选择]IPSP的产生，是由于突触后膜对下列哪种离子通透性的增加（）
A. Na+
B. Ca2+
C. K+、Cl-，尤其是Cl-
D. Na+、K+、Cl-，尤其是K+
E. Na+、K+、Cl-，尤其是Na+
[单项选择]兴奋性突触后电位是突触后膜对哪种离子的通透性增加引起的（）
A. K+和Ca2+
B. Na+和K+，尤其是K+
C. Na+和K+，尤其是N+
D. Na+和Ca2+
E. Cl-
[单项选择]抑制性突触后电位的产生是由于突触后膜对下列哪种离子通透性增加所致（）
A. Na+、Cl-、K+，尤其是K+
B. Ca2+、K+、Cl-，尤其是Ca2+
C. Na+、K+，尤其是Na+
D. K+、Cl-，尤其是Cl-
E. K+、Ca2+、Na+，尤其是Ca2+
[单项选择]腹泻易导致哪种离子过量丢失（）
A. 钾
B. 镁
C. 钠
D. 钙
E. 铝
[单项选择]水的硬度是由下列哪种离子引起（）
A. Fe3+.Fe2+
B. Na+.K+
C. Ca2+.Mg2+
D. NO3-.CO32-
[单项选择]下列哪种离子被称为调节细胞功能的信使（）
A. Mg2+
B. Na+
C. K+
D. Ca2+
[单项选择]峰电位的产生与哪种离子的平衡电位有关（）
A. K+
B. Na+
C. Ca2+
D. Cl-平衡电位
E. Mg2+平衡电位
[单项选择]下列哪种离子是凝血过程必不可少的（）
A. 钙离子
B. 钾离子
C. 镁离子
D. 钠离子
E. 氯离子
[单项选择]轴突末梢释放神经递质与哪种离子内流有关（）
A. K+
B. Na+
C. Ca2+
D. Cl-
E. H+
[单项选择]正常人尿中哪种离子与Cl-的排泄有密切关系（）
A. Na+
B. NH+4
C. Ca2+
D. HCO-3
E. K+
