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[单项选择]Ⅲ类洞制备时（）
A. 必须做鸠尾
B. 无须做鸠尾
C. 在舌侧（腭侧）做相应的鸠尾
D. 在颊侧设计相应鸠尾
E. 根据龋损的部位、范围及邻牙情况选择制备鸠尾
[单项选择]后牙Ⅱ类洞制备时，鸠尾峡宽度正确的是（）。
A. 颊舌牙尖间距的1/4
B. 颊舌牙尖间距的1/4～1/3
C. 颊舌牙尖间距的1/3～1/2
D. 颊舌牙尖间距的1/2～2/3
E. 颊舌牙尖间距的2/3～3/4
[单项选择]龋1/3洞制备时洞底应与牙表面平行的原因是（）。
A. 为了避免损伤牙髓
B. 为了获得侧壁固体
C. 为了和牙轴平行
D. 为了底平
E. 为了美观
[单项选择]乳磨牙制备银汞洞型时，哪项不正确（）
A. 面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型，不必扩展
B. 单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形
C. 为避免意外穿髓不必强调底平
D. 洞要有一定深度，线角要圆钝
E. 乳牙不用恢复咬合高度和接触点
[单项选择]如果一颗后牙的两个邻面都患龋，且范围较大，治疗时，应将此牙制备成邻洞，这一类洞应该是（）
A. Ⅰ类洞
B. Ⅱ类洞
C. Ⅲ类洞
D. Ⅳ类洞
E. Ⅴ类洞
[单项选择]Ⅴ类洞的制备要点，不妥的是（）
A. Ⅴ类洞是开放的洞，不易制备抗力形和固位形，需制作针道
B. Ⅴ类洞是一种简单的洞
C. Ⅴ类洞制备较容易，但需要一定的固位形
D. Ⅴ类洞不承受咀嚼压力，因此对抗力形的要求不高
E. 备洞时常把Ⅴ类洞的外形作成肾形或半圆形
[单项选择]Ⅴ类洞充填备洞时，要求（）
A. 适当的固位形
B. 严格的抗力形
C. 必须做鸠尾
D. 口小底大
E. 底平壁直
[单项选择]治疗下颌第二前磨牙远中面龋，应制备什么洞（）
A. 远中合面洞
B. 远中颊面洞
C. 远中单面洞
D. 远中舌面洞
E. 远中腭面洞
[单项选择]Ⅴ类洞充填备洞后时，要求（）
A. 严格的抗力形
B. 适当的固位形
C. 底平壁直
D. 与牙面外形一致
E. 必须做鸠尾
[单项选择]复合树脂充填时洞缘斜面制备在（）
A. 洞缘釉质处
B. 洞壁牙本质处
C. 洞的釉质牙本质处
D. 洞缘的牙骨质处
E. 洞缘的咬合接触点处
