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[多选题] 以温度作为被控变量的化学反应器中常用的控制系统有( )系统和单回路温度控制系统、前馈控制系统。
A.均匀控制
B.分程控制
C.串级控制
D.比值控制
[简答题] 精馏塔采用温度作为被控变量可根据实际情况选择哪几种温度控制方式?
[单选题]当被控制变量为温度时，控制器应选择( )控制规律。
A.P
B.PI
C.PD
D.PID
[单选题]当被控变量为温度时，控制器应选择（ ）控制规律
A.P
B.PI
C.PD
D.PID
[单选题]在自动控制系统中,能克服干扰量对被控变量的影响,使被控变量保持到预期设定值的物料量或能量,即通过调节阀的工艺介质流量,称为()。
A.被控对象
B.被控变量
C.操纵变量
[多选题] 在精馏中影响温度变化的因素是( )所以采用温差作为被控变量来进行控制。
A.密度
B.成分
C.挥发度
D.压力
[单选题] 选择被控变量应尽量使控制通道( )。
A.放大系数适当大、时间常数适当小、功率比较大
B.放大系数大、时间常数适当小、滞后时间尽量小
C.时间常数适当小、滞后时间尽量小、偏差信号尽量小
D.滞后时间尽量小、偏差信号尽量小、功率比较大
[判断题]BBB011 3 3 3
一个属于“正作用”的被控对象，其被控变量会随操纵变量的增加而增加。（ ）
A.正确
B.错误
[多选题]滞后现象是指被控对象在受到输入作用后，被控变量( )的现象
A.不能立即变化
B.虽然变化但变化比较缓慢
C.变化比较迅速
D.立即变化且变化比较迅速
[判断题]如果被控变量的控制质量要求不是特别高,完全可以不加积分。
A.正确
B.错误
[判断题]系统输出的操作变量和被控变量存在着反馈回路的系统为闭环系统。
A.正确
B.错误
[单选题] 动态矩阵控制DMC中,以下对被控变量CV描述正确的是( )。
A.不受控制器控制的可测变量
B.控制器需要调节控制的变量
C.工艺上需要约束其上下限的变量
D.调节发的阀位
[判断题]在生产过程中利用自动控制系统使之按一定规律变化的变量属于被控变量。
A.正确
B.错误
