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[判断题]“复制权”是指布图设计权人有权复制或许可他人复制其布图设计之一部或全部，任何第三人都可以复制某个布图设计。
[单项选择]布图设计已经投入商业利用的，在申请布图设计登记之时，申请人应该提交含有该布图设计的（）。
A. 文字资料
B. 集成电路样品
C. 设计原稿
D. 布图设计图纸
[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，侵犯布图设计专有权，引起纠纷的，布图设计权利人或者利害关系人可以向下列哪一部门请求处理？（）
A. 国务院工商行政管理部门
B. 国务院知识产权行政部门
C. 国务院科学技术行政部门
D. 省级管理专利工作的部门
[单项选择]集成电路布图设计是一种图形设计，它既不受专利法保护，也不受著作权法的保护，在我国，布图设计专有权的管理工作由以下哪个部门来负责（）。
A. 国家知识产权局
B. 工业和信息化部
C. 国家工商行政管理总局
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）
A. 将受保护的布图设计投入商业利用
B. 将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用
C. 对受保护的布图设计的全部进行复制
D. 对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪种文件是申请布图设计登记应当提交的？（）
A. 权利要求书
B. 说明书
C. 说明书附图
D. 布图设计的复印件或者图样
[单项选择]根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。
A. 甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计
B. 乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制
C. 丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用
D. 丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
[单项选择]侵犯布图设计专有权，引起纠纷的，布图设计权利人或者利害关系人可以向下列哪些部门请求处理？（）
A. 国务院工商行政管理部门
B. 国务院著作权行政管理部门
C. 国务院知识产权行政部门
D. 省级知识产权行政管理部门
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）
A. 某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计
B. 乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
C. 丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分
D. 丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的，应当提交下列哪些文件或者物品？（）
A. 集成电路布图设计登记申请表
B. 集成电路布图设计的说明书和权利要求书
C. 集成电路布图设计的复制件或者图样
D. 集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品
[单项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的，可以选择下列哪种救济途径？（）
A. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局申请行政复议
B. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会请求复审
C. 自收到通知之日起3个月内向国家知识产权局专利复审委员会申诉
D. 自收到通知之日起3个月内直接向人民法院提起行政诉讼
[单项选择]布图设计权利人对国务院知识产权行政部门关于使用布图设计非自愿许可的决定不服的，可以自收到通知之日起（）内向人民法院起诉。
A. 3日
B. 30日
C. 3个月
D. 1年
[不定项选择]根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计登记申请人对国家知识产权局驳回其登记申请的决定不服的，可以如何处理？（）
A. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申请行政复议
B. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局申诉
C. 自收到通知之日起3个月内，向国家知识产权局请求复审
D. 自收到通知之日起3个月内，向人民法院提起行政诉讼
[单项选择]集成电路布图设计是一种（）配置形态的图形设计。
A. 一维
B. 二维
C. 三维
D. 四维
[单项选择]在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品时，不知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的行为是（）。
A. 侵权行为
B. 不视为侵权行为
C. 违法行为
D. 犯罪行为
[多项选择]根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）
A. 为个人目的而复制受保护的布图设计
B. 为研究目的而复制受保护的布图设计
C. 在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计
D. 对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
[单项选择]布图设计专有权的保护期为（），自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。
A. 五年
B. 十年
C. 十五年
[多项选择]布图设计权产生的形式条件包括（）。
A. 布图设计必须投入商业实施
B. 布图设计必须具有新颖性
C. 布图设计必须固化到集成电路芯片中
D. 必须办理有关登记手续
