题目详情
当前位置:首页 > 学历类考试 > 微电子学
题目详情:
发布时间:2024-01-07 22:33:20

[简答题]列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。

更多"列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。"的相关试题:

[简答题]列出并描述I线光刻胶的4种成分。
[简答题]光学光刻技术的改进有哪些方面?
[单项选择]乙为甲公司一名签了保密协议的技术骨干,后被竞争对手丙挖走,并将甲公司正在研发产品的技术资料泄露给了丙公司,以致该产品被丙研发上市,对甲公司造成重大经济损失。乙的行为构成()。
A. 泄露商业秘密罪
B. 泄露国家秘密罪
C. 侵犯著作权罪
D. 侵犯商标罪
[简答题]光刻胶厚度随什么变化?
[填空题]当前尚未被大规模利用,正在研发和推广的一次能源叫做()
[单项选择]甲公司是一家非常注重技术更新的企业。目前,该公司管理者正在为研发策略的选择而争议不休,于是甲公司聘请了调查机构提供了市场调研报告,报告中主要摘要为:“经过分析,我们发现贵公司目前面临的市场状况有如下特征:(1) 产品技术进步速度缓慢;(2) 市场增长率适中;(3) 新的市场进入者存在着很大的进入障碍……”。根据以上信息可以判断,最适合该公司的研发策略是( )。
A. 购买企业外部技术
B. 内部研发
C. 获得专利许可
D. 基准分析
[简答题]列出并描述两种主要的光刻胶。
[单项选择]甲、乙、丙三方合作研发一项新技术,合作开发合同中未约定该技术成果的权利归属。新技术研发成功后,乙、丙提出申请专利,甲不同意。根据《合同法》的规定,下列关于专利申请的表述中,正确的是( )。
A. 乙、丙不得去申请专利
B. 甲应当把专利申请权转让给乙、丙
C. 乙、丙可以去申请专利,取得专利权后,归乙、丙共同享有
D. 乙、丙可以去申请专利,取得专利权后,归甲、乙、丙共同享有
[简答题]简述有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域。
[简答题]给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
[单项选择]企业接受国家的具有专门用途的拨款,如专项用于技术改造、技术研发等,以及从其他来源取得的款项是指( )。
A. 长期应付款
B. 专项应付款
C. 补贴收入
D. 专项拨款
[简答题]典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少?
[简答题]如果光刻胶对光的吸收过多侧墙会怎样?
[单项选择]甲公司2007年2月开始研发一项新技术,2008年5月初研发成功,企业申请了专利技术。研究阶段发生相关费用18万元;开发过程发生工资费用20万元,材料费用50万元,设备折旧费5万元;假设开发过程中发生的相关费用均符合资本化条件。申请专利时发生注册费等相关费用 15万元。企业该项专利权的入账价值为( )万元。
A. 30
B. 75
C. 90
D. 108
[简答题]解释光刻胶选择比,要求的比例是高还是低?
[简答题]陈述分辨率公式。影响光刻分辨率的三个参数?
[简答题]列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。
[单项选择]设信号的波特率为600Baud,采用幅度—相位复合调制技术,由4种幅度和8种相位组成16种码元,则信道的数据速率为()。
A. 600 b/s
B. 2400 b/s
C. 4800 b/s
D. 9600 b/s

我来回答:

购买搜题卡查看答案
[会员特权] 开通VIP, 查看 全部题目答案
[会员特权] 享免全部广告特权
推荐91天
¥36.8
¥80元
31天
¥20.8
¥40元
365天
¥88.8
¥188元
请选择支付方式
  • 微信支付
  • 支付宝支付
点击支付即表示同意并接受了《购买须知》
立即支付 系统将自动为您注册账号
请使用微信扫码支付

订单号:

请不要关闭本页面,支付完成后请点击【支付完成】按钮
恭喜您,购买搜题卡成功
重要提示:请拍照或截图保存账号密码!
我要搜题网官网:https://www.woyaosouti.com
我已记住账号密码