微电子学
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[简答题]列出并描述I线光刻胶的4种成分。
[简答题]哪种激光器用做248nm的光源,193nm的光源是什么?
[简答题]给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
[简答题]陈述分辨率公式。影响光刻分辨率的三个参数?
[简答题]什么是LOCOS和STI(写中英文全称),为什么在高级IC中STI取代了LOCOS,列举STI的工艺步骤。
[简答题]DUV波长曝光时使用哪种透镜材料?
[简答题]陈述软烘的4个原因。
[简答题]什么是数值孔径(NA),陈述它的公式,包括近似公式?
[简答题]光刻胶厚度随什么变化?
[简答题]列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。
[简答题]列出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。
[简答题]描述投影掩膜版和光掩膜版的区别?
[简答题]什么是负胶分辨率的限制,哪种胶应用在亚微米光刻胶中?
[简答题]列出并描述两种主要的光刻胶。
[简答题]如果光刻胶对光的吸收过多侧墙会怎样?
[简答题]解释亮场掩膜版和暗场掩膜版。
[简答题]描述曝光波长和图像分辨率的关系。
[简答题]解释透镜压缩是怎么发生的,它产生了什么问题?
[简答题]负胶的两大缺点是什么。
[简答题]典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少?
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