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[单项选择]制备V类洞时，要求
A. 有严格的抗力形
B. 有适当的固位形
C. 底平壁直
D. 考虑所承受的咬合力
E. 做鸠尾
[单项选择]Ⅲ类洞制备时
A. 必须作鸠尾
B. 无需作鸠尾
C. 在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾
D. 在颊侧设计相应鸠尾
E. 以上都不对
[单项选择]咬合面窝洞制备时洞缘要求，除外
A. 洞缘线圆缓
B. 沿窝沟外形扩展
C. 避开咬合力部位
D. 去除无基釉质
E. 制备短斜面
[单项选择]在制备44合面洞时，洞底应：（）
A. 与龈缘平行
B. 与长轴垂直
C. 与合面平行
D. 与牙的颊面垂直
[单项选择]制备邻面洞时，轴髓线角应成：（）
A. 直角
B. 45度斜面
C. 锐角
D. 60度斜面
[单项选择]Ⅴ类洞充填备洞时，要求
A. 严格的抗力形
B. 适当的固位形
C. 底平壁直
D. 与牙面外形一致
E. 必须做鸠尾
[单项选择]制备复合树脂充填洞形时应注意（）
A. 点线角应圆钝，洞缘釉质壁应制成斜面，倒凹宜呈圆弧形
B. 底要平，洞壁要直，洞形必须要深
C. 要去尽无基釉质，增加抗力形
D. 为制备获得良好的固位形，必须磨除正常的牙体组织
E. 无需去尽无基釉质，也无需在洞缘角制备短斜面
[单项选择]窝洞制备时洞缘曲线要求圆钝，其目的是
A. 防止牙齿折裂
B. 防止充填体折裂
C. 防止充填体脱落
D. 防止继发龋发生
E. 防止充填材料的刺激
[单项选择]咬合面Ⅰ类洞充填银汞合金时的制备要点之一为
A. 洞外形可以不成圆缓曲线
B. 洞深度至少达釉牙本质界
C. 近远中壁应与斜嵴呈钝角
D. 窝洞侧壁应与髓壁呈锐角
E. 洞面角呈直角、无短斜面
[单项选择]嵌体修复乳牙I类洞形时，牙体制备的深度应达牙本质
A. 0.5mm
B. 0.8mm
C. 1.0mm
D. 1.2mm
E. 1.5mm
[单项选择]Ⅴ类洞制备的要点包括（）
A. 倒凹固位应做于龈轴和[*](切)轴线角处
B. 倒凹固位应做于近中轴和远中轴线角处
C. 近远中壁和釉柱垂直
D. 对抗力形要求高
E. 洞壁与轴壁平行
[单项选择]乳牙Ⅱ类洞何种情况下可制备成无台阶形复面洞
A. 乳牙接触点较近面时
B. 乳牙龈缘较近面时
C. 乳牙龋蚀较近面时
D. 乳牙龋蚀及龈缘较近面时
E. 乳牙接触点、龈缘或龋蚀较近面时
[单项选择]制备抗生素类药物溶液时，加入表面活性剂作为（）
A. 助悬剂
B. 增溶剂
C. 乳化剂
D. 防腐剂
E. 助溶剂
[单项选择]下列哪一种情况适合于制备邻合洞而不作邻阶（）
A. 邻面中度龋
B. 邻面颈部龋
C. 邻面龋局限在接触点合侧
D. 邻面龋局限在接触点龈侧
E. 邻面深龋，无邻牙
[单项选择]制备微囊时，相分离法要求
A. 在液相中进行
B. 在气相中进行
C. 在固相中进行
D. 在液相和气相中进行
E. 都可以
[单项选择]根管治疗时，开髓洞形制备的原则如下，除外
A. 应在髓角最高处穿通髓腔
B. 开髓窝洞外形和大小同髓室顶
C. 开髓洞口应充分暴露髓室和根管口
D. 开髓洞口应是充分暴露髓室的最小开口
E. 尽量保留健康牙体组织，不应去除髓室侧壁的突起
[单项选择]复合树脂充填洞形制备特点
A. 底平壁直，洞形必须达到一定的深度
B. 点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面
C. 应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形
D. 洞缘角应呈直角，不宜在洞缘角制备短斜面，需去净无基釉
E. 无需去净无基釉，但要有良好的抗力形
