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[单项选择]制备V类洞时，要求
A. 有严格的抗力形
B. 有适当的固位形
C. 底平壁直
D. 与牙面外形一致
E. 做鸠尾
[单项选择]制备Ⅴ类洞时，要求( )
A. 有严格的抗力形
B. 有适当的固位形
C. 底平壁直
D. 与牙面外形一致
E. 做鸠尾
[单项选择]咬合面窝洞制备时洞缘要求，除外
A. 洞缘线圆缓
B. 沿窝沟外形扩展
C. 避开咬合力部位
D. 去除无基釉质
E. 制备短斜面
[单项选择]窝洞制备时洞缘曲线要求圆钝，其目的是
A. 防止牙齿折裂
B. 防止充填体折裂
C. 防止充填体脱落
D. 防止继发龋发生
E. 防止充填材料的刺激
[单项选择]Ⅴ类洞充填备洞时，要求
A. 严格的抗力形
B. 适当的固位形
C. 底平壁直
D. 与牙面外形一致
E. 必须做鸠尾
[单项选择]Ⅲ类洞制备时
A. 必须作鸠尾
B. 无需作鸠尾
C. 在舌侧(腭侧)作相应的鸠尾
D. 在颊侧设计相应鸠尾
E. 以上都不对
[单项选择]制备微囊时，相分离法要求
A. 在液相中进行
B. 在气相中进行
C. 在固相中进行
D. 在液相和气相中进行
E. 都可以
[单项选择]复面洞制备时，对髓壁的要求是
A. 侧壁平行
B. 侧壁垂直
C. 与龈壁垂直
D. 以上都不对
E. 与轴壁平行
[单项选择]Black分类中Ⅱ类洞是指
A. 发生在前牙邻面龋损所制备的洞
B. 发生在前牙邻面已包括切角缺损所制备的洞
C. 发生在后牙邻面龋损所制备的洞
D. 发生在前牙舌面龋损所制备的洞
E. 发生在后牙颊、舌面龋损所制备的洞
[单项选择]Ⅲ类洞制备时关于鸠尾制作的叙述正确的是( )
A. 必须设计鸠尾
B. 无需设计鸠尾
C. 在舌侧(腭侧)设计相应的鸠尾
D. 在颊侧设计相应的鸠尾
E. 以上都正确
[单项选择]固位形窝洞的制备要求之一为
A. 洞形应做成浅而敞开
B. 尽量多做倒凹形固位
C. 单面洞应用鸠尾固位
D. 底平壁直的盒状洞形
E. 点、线、角清晰锐利
[单项选择]抗力形窝洞的制备要求如下，除外
A. 底平壁直的盒状洞形
B. 点、线，角清晰锐利
C. 窝洞应有一定的深度
D. 应去除悬空的牙釉质
E. 洞缘线应成圆缓曲线
