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[判断题]高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。
[简答题]简述APCVD、LPCVD、PECVD的特点。
[判断题]LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强的等离子体，增加淀积能量，即低压和低温。
[判断题]与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。
[多项选择]干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。
A. 离子、电子
B. 中性原子
C. 分子
D. 自由基
[单项选择]缩略语MCU表示（）。
A. 多点视频控制器
B. 画中画
C. 光网络单元
D. 视频远端调节
[单项选择]缩略语PIP表示（）。
A. 画中画
B. 远端
C. 近端
D. 放大图像
[单项选择]采样值的缩略语是（）
A. SV
B. GOOSE
C. MU
D. ECT
[单项选择]扩展标记语言的缩略语是（）
A. UART
B. MU
C. XML
D. SV
[单项选择]等离子体是一种（）。
A. 气体光源
B. 固体光源
C. 液体光源
D. 激光光源
[单项选择]等离子体灭菌的原理是（）
A. 活性基团的作用
B. 高速粒子击穿作用
C. 紫外线的作用
D. 温度的辅助作用
E. 以上全是
[多项选择]以下缩略语正确的是：（）。
A. HLR是归属位置寄存器
B. HSS是归属用户服务器
C. IMS是IP多媒体子系统
D. MAP是地图
[单项选择]精确时间协议的缩略语是（）。
A. SCL
B. PTP
C. SNTP
D. PPS
