更多"LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强"的相关试题:
[填空题]缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。
[简答题]简述APCVD、LPCVD、PECVD的特点。
[多项选择]干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。
A. 离子、电子
B. 中性原子
C. 分子
D. 自由基
[单项选择]等离子体灭菌的原理是（）
A. 活性基团的作用
B. 高速粒子击穿作用
C. 紫外线的作用
D. 温度的辅助作用
E. 以上全是
[单项选择]等离子体是一种（）。
A. 气体光源
B. 固体光源
C. 液体光源
D. 激光光源
[单项选择]影响等离子体灭菌效果的因素有（）
A. 基础气体
B. 激发功率
C. 微生物的种类
D. 有机物和无机物
E. 以上全是
[填空题]等离子弧是在电弧的（）放电过程中，是气体完全电离得到等离子体的。
[填空题]等离子体彩电出现图像方面的故障时，可通过等离子屏的（）来判断好坏。
[名词解释]SPR（Surface Plasmon Resonance，表面等离子体共振）
[多项选择]等离子体法去钻污的特点是（）。
A. 成本高
B. 产量低
C. 去钻污很彻底
D. 适用于任何板材
[单项选择]下列哪种物品不适合采用过氧化氢等离子体灭菌：（）.
A. 电子仪器
B. 纱布
C. 光学仪器
D. 管腔≥3mm的金属器械
