更多"前腭杆离开龈缘应（）"的相关试题:
[单项选择]侧腭杆离开龈缘应（）
A. 8mm
B. 至少6mm
C. 4～6mm
D. 3～4mm
E. 1.5～2mm
[单项选择]前腭杆应离开龈缘至少（）。
A. 3mm
B. 4mm
C. 5mm
D. 6mm
E. 7mm
[单项选择]侧腭杆应离开龈缘（）
A. 0.3～0.4mm
B. 3～4mm
C. 4～6mm
D. 6mm
E. 7mm以下
[单项选择]初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）
A. 不必处理
B. 腭杆组织面加白凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 去腭杆，让患者戴走
E. 取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面做缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A. 不做处理，让患者把义齿戴走
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 取下腭杆
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]基台的穿龈高度应为（）
A. 1～5mm
B. 1～7mm
C. 2～5mm
D. 2～8mm
E. 3～9mm
[单项选择]硬质树脂全冠修复体龈边缘应（）
A. 龈下边缘
B. 平龈
C. 龈上边缘，距龈缘0.5mm
D. 进入龈沟0.5mm
E. 以上都不对
[单项选择]制作前牙固定桥增力桥架时，龈端应距离牙龈约（）
A. 3.0mm
B. 2.5mm
C. 2.0mm
D. 1.5mm
E. 1.0mm
