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[单项选择]侧腭杆离开龈缘应（）
A. 8mm
B. 至少6mm
C. 4～6mm
D. 3～4mm
E. 1.5～2mm
[单项选择]前腭杆离开龈缘应（）
A. 8mm
B. 至少6mm
C. 4～6mm
D. 3～4mm
E. 1.5～2mm
[单项选择]前腭杆应离开龈缘至少（）。
A. 3mm
B. 4mm
C. 5mm
D. 6mm
E. 7mm
[单项选择]初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）
A. 不必处理
B. 腭杆组织面加白凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 去腭杆，让患者戴走
E. 取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面做缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A. 不做处理，让患者把义齿戴走
B. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
C. 腭杆组织面缓冲
D. 取下腭杆
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A. 取下腭杆
B. 腭杆组织面缓冲
C. 腭杆组织面加自凝树脂重衬
D. 不做任何处理
E. 取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
[单项选择]男性，13岁，临床检查见上前牙唇侧龋缘及龈乳头肿胀明显，龋缘有大量软垢，龈乳头呈球状突起，颜色暗红，质地软，探诊易出血，附着水平没有显著变化。最可能的诊断是（）
A. 慢性牙周炎
B. 急性坏死性溃疡性龋炎
C. 青春期龈炎
D. 慢性龈缘炎
E. 增生性龋炎
[单项选择]前牙金属烤瓷冠唇侧作龈下边缘的主要优点是（）
A. 龈沟内是免疫区
B. 修复体边缘密合性好
C. 不易产生继发龋
D. 增进美观
E. 防止菌斑附着
[单项选择]口腔临床检查时发现某患者牙龈因炎症有颜色改变，龈袋深度2mm，舌侧有龈下石，探诊后出血，用CPI指数标准记分应为（）。
A. 0
B. 1
C. 2
D. 3
E. 4
