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发布时间:2023-10-03 10:03:38

[判断题]焦饼中心温度一般控制在1000±50℃。

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[填空题]焦饼中心温度一般控制在()。
[填空题]一般焦饼中心温度达到()可视为焦饼成熟。
[单项选择]虽然机、焦侧焦饼中心温度一致,但焦侧焦饼平均温度()机侧,故随焦饼带走的热量过多,因此,焦侧耗热量大于机侧。
A. 低于
B. 高于
C. 等于
D. 不高于
[填空题]焦饼的中心温度一般在()℃,焦饼上、下温差应小于()℃。
[判断题]焦饼温度一般控制在1000±50℃。
[简答题]测量焦饼中心温度的目的是什么?在何种情况下,要测焦饼中心温度?
[填空题]测焦饼中心温度是为了(),对大型硅砖焦炉来说,要求最终的焦饼中心温度是()。
[单项选择]焦饼中心温度出焦前()小时测一次温度,以后每隔半小时测一次,共三次。
A. 1.5
B. 2.0
C. 2.5
[判断题]改变结焦时间或改变标准温度时,应该测量焦饼中心温度。
[填空题]()温度确定的依据是焦饼中心温度。
[填空题]对于同一座焦炉,标准温度是根据焦饼中心温度来确定的,结焦时间越长,标准温度越()。
[单项选择]焦饼中心的温度为()
A. 1000±50℃
B. 1000℃
C. 1000±20℃
D. 900℃
[判断题]改变结焦时间或改变标准温度时,应该加测焦饼中心温度。
[单项选择]规定的焦饼中心温度()。
A. (800±50)℃
B. (900±50)℃
C. (1000±50)℃
[判断题]焦饼中心温度是确定标准立火道温度的依据,同时又是确定机焦侧温度差的依据。
[判断题]焦饼中心温度为900±50℃。

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