半导体芯片制造工
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[多项选择]硅外延片的应用包括()。
A. 二极管和三极管
B. 电力电子器件
C. 大规模集成电路
D. 超大规模集成电路
[单项选择]恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
A. 高斯函数
B. 余误差函数
C. 指数函数
D. 线性函数
[填空题]大容量可编程逻辑器件分为()和()。
[填空题]全定制、半定制版图设计中用到的单元库包含()、()、()和()。
[单项选择]单相3线插座接线有严格规定()
A. “左零”“右火”
B. “左火”“右零”
[多项选择]按蒸发源加热方法的不同,真空蒸发工艺可分为:()蒸发、()蒸发、离子束蒸发等。
A. 电阻加热
B. 电子束
C. 蒸气原子
[单项选择]介质隔离是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘的一种隔离方法。常用的电介质是()层。
A. 多晶硅
B. 氮化硅
C. 二氧化硅
[填空题]对标准单元设计EDA系统而言,标准单元库应包含以下内容:()、和()、()、()。
[单项选择]二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
A. 预
B. 再
C. 选择
[单项选择]光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺()
A. 刻制图形
B. 绘制图形
C. 制作图形
[单项选择]在温度相同的情况下,制备相同厚度的氧化层,分别用干氧,湿氧和水汽氧化,哪个需要的时间最长?()
A. 干氧
B. 湿氧
C. 水汽氧化
D. 不能确定哪个使用的时间长
[单项选择]Ⅰ号液是()过氧化氢清洗液.
A. 碱性
B. 酸性
C. 中性
[填空题]半导体材料有两种载流子参加导电,具有两种导电类型。一种是(),另一种是()。
[单项选择]离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。
A. 能量
B. 剂量
[单项选择]从离子源引出的是:()
A. 原子束
B. 分子束
C. 中子束
D. 离子束
[填空题]在一个晶圆上分布着许多块集成电路,在封装时将各块集成电路切开时的切口叫()。
[单项选择]将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A. 接触
B. 接近式
C. 投影
[填空题]在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质,在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源,不再有新的杂质补充,这种扩散方式称为:()
[单项选择]人们规定:()电压为安全电压.
A. 36伏以下
B. 50伏以下
C. 24伏以下
[单项选择]离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。
A. 能量
B. 剂量
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