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发布时间:2023-09-28 23:41:17

[填空题]列出热氧化物在硅片制造的4种用途()、()、场氧化层和()。

更多"列出热氧化物在硅片制造的4种用途()、()、场氧化层和()。"的相关试题:

[填空题]制造电子器件的基本半导体材料是圆形单晶薄片,称为硅片或()。在硅片制造厂,由硅片生产的半导体产品,又被称为()或()。
[判断题]不正确的刻蚀将导致硅片报废,给硅片制造公司带来损失。
[填空题]硅片上的氧化物主要通过()和()的方法产生,由于硅片表面非常平整,使得产生的氧化物主要为层状结构,所以又称为()。
[简答题]例举硅片制造厂房中的7种玷污源。
[简答题]在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
[简答题]例举并描述金属用于硅片制造的7种要求。
[简答题]单晶硅硅片的制造过程?
[简答题]阀型避雷器和金属氧化物避雷器的用途是什么?
[多项选择]净化室将硅片制造设备与外部环境隔离,免受诸如()的沾污。
A. 颗粒
B. 金属
C. 有机分子
D. 静电释放(ESD)
E. 水
[简答题]什么是硅化物?难熔金属硅化物在硅片制造业中重要的原因是什么?
[填空题]在半导体制造业中,最早的互连金属是(),在硅片制造业中最普通的互连金属是(),即将取代它的金属材料是()。
[判断题]硅片制造厂可分为六个独立的区域,各个区域的照明都采用同一种光源以达到标准化。
[判断题]虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词,但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结,取而代之的是离子注入。
[填空题]芯片硅片制造厂可以分为6个独立的生产区:扩散区、()、刻蚀区、()、()和抛光区。
[填空题]光伏产业价值链有四个环节,分别为()、硅片生产、电池制造、组件封装。
[判断题]钢中氧化物夹杂可分为简单氧化物和复杂氧化物两类。铁和锰的氧化物固溶体(FeO?MnO)是简单氧化物。
[单项选择]沾污引起的电学缺陷引起(),硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。
A. 不会影响成品率
B. 晶圆缺陷
C. 成品率损失
D. 晶圆损失
[简答题]说出4种消毒药及其浓度、用途。
[多项选择]沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片()的不希望有的物质。
A. 功能
B. 成品率
C. 物理性能
D. 电学性能
E. 外观

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